Challenge
デザインルールが65 nm以下に微細化すると、もはやCD計測だけではデバイスの特性を判断し、性能を保証することが不可能になります。新しい計測上の課題に対応するには、Hight、Depth、SWAの他、フット、ノッチ、高アスペクトコンタクトなど、デバイス構造の全プロファイルの計測が求められます。
テスト構造とデバイス内パラメータの相関関係が弱くなるにつれ、ダイ内測定の必要性も高まります。プロセス・ウインドウが微細化すると同時にTMU（Total Metrology Uncertainty：総計測不確定性）の縮小も必要となるため、高スループットと低CoOを維持しつつ、高精度とフリート（ツール間）マッチングを提供することが計測ソリューションに必須の条件となります。オプティカルCD計測ソリューションは、CD-SEMシステムに代わり、エッチ、リソグラフィ、CMP、CVDに幅広く使用される方向にあります。

Solution
特許取得済みの垂直入射分光・光波散乱計測を採用したNOVAの計測システムは、テスト・パッドとダイ内において2D、3D構造の完全なオプティカルCD計測と形状プロファイル計測を可能にします。業界をリードするフリート（ツール間）マッチングと最高のスループットを誇り、テクノロジー・ノード32 nmに至るまで、スタンドアロン型（SA）、装置組み込み型（IM）の両方の光学CD測定ソリューション、形状プロファイル計測ソリューションを提供します。SA、IMのどちらのアーキテクチャにおいても、レシピ互換性とフリート・マッチング性能を実現します。
NovaMARSソフトウェアは、2D、3Dモデリング機能とアプリケーション開発機能により、複雑なダイ内構造や多層スタックの測定を可能にします。NovaMARSでは、ソリューションの感度予測が可能なため、実際の測定を実行する前に感度テスト用構造の開発のみならずパラメータ相関関係の予測が可能です。